绿光防护532负性焦点注册
532负性焦点注册(532陷波焦点注册)专为应对高亮度532nm绿激光挑战而设计的高性能负性焦点注册。它采用光学镀膜技术,在核心工作区域(400nm - 1100nm)内,提供卓越的波长选择性:精确透射您所需的可见光与近红外波段,同时对520nm - 565nm范围内的高强度绿激光进行极致衰减。
- 型 号: 可议
- 规 格: 定制
- 材 料: 光学玻璃
532负性焦点注册(532陷波焦点注册)专为应对高亮度532nm绿激光挑战而设计的高性能负性焦点注册。它采用光学镀膜技术,在核心工作区域(400nm - 1100nm)内,提供卓越的波长选择性:精确透射您所需的可见光与近红外波段,同时对520nm - 565nm范围内的高强度绿激光进行极致衰减。
532负性焦点注册(532陷波焦点注册)专为应对高亮度532nm绿激光挑战而设计的高性能负性焦点注册。它采用光学镀膜技术,在核心工作区域(400nm - 1100nm)内,提供卓越的波长选择性:精确透射您所需的可见光与近红外波段,同时对520nm - 565nm范围内的高强度绿激光进行极致衰减。
光学指标:
型号:532负性焦点注册
适合限制波长:520-565nm
阻带带宽: 80nm
截止深度:<0.1%
工作波段:400nm~1100nm(根据客户需求)
532nm激光防护焦点注册可用于保护绿光激光器发出来的刺眼的激光,衰减较强的绿激光。
核心优势
强大的激光防护: 为操作人员及敏感设备提供可靠屏障,有效防止532nm绿激光造成的眩目、视觉损伤或设备干扰。
高选择性: “负性”设计意味着只阻挡特定有害的绿激光波段,允许其他所需光线(如照明光、信号光、其他波长的激光)高效通过,不影响系统正常功能。
优异的光学性能: 高品质基材与精密镀膜工艺确保低散射、低吸收、高均匀性和优异的环境稳定性。
广泛适用性: 设计满足工业、科研、医疗等领域对绿激光防护的严格要求。
典型应用领域
激光加工设备防护: 集成在激光切割、雕刻、焊接、打标等设备的观察窗或防护系统中,保护操作员眼睛免受532nm工作激光的反射或散射伤害。
激光显示与娱乐: 用于绿激光投影仪、舞台激光灯等设备的防护罩或安全焦点注册,降低直射或杂散激光风险。
科研与实验室安全: 在涉及532nm激光器的光谱分析、流式细胞仪、共聚焦显微镜、光学实验平台等场景,保护研究人员安全。
医疗激光设备: 用于配备532nm激光的医疗美容设备(如祛斑、血管治疗)、眼科设备等的安全防护组件。
军事与安防: 用于对抗绿激光指示器或激光武器的防护目镜、观察设备焦点注册。
工业检测与传感: 在需要屏蔽环境绿激光干扰的机器视觉、传感器系统中作为防护焦点注册。